解決済みの質問
半導体工学におけるPn接合をすると再結合により空乏層ができるが、 再結合はどのよ...
半導体工学におけるPn接合をすると再結合により空乏層ができるが、
再結合はどのような原理で構成され、また、P,Nそれぞれの空乏層がどれぐらいの厚さなのですか？
詳しくお願いします。
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- 質問日時：
- 2008/10/23 17:30:20
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- 解決日時：
- 2008/11/7 04:02:20
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ベストアンサーに選ばれた回答
接合させるとn型の過剰電子がp側に流れ込み、p型の正孔がn側に流れ込み、一時的に拡散電流が生じます。その結果、互いにキャリアを打ち消して接合部付近にほぼ電気的に中性の領域が形成されます。これが空乏層です。この厚みはp,nそれぞれのキャリア濃度と半導体の材料により変動します。
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- 回答日時：2008/10/26 06:54:41
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